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蘇州市創聯凈化設備有限公司
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芯片封裝生產工藝流程簡介：芯片：為外購的合格芯片
| 芯片封裝生產工藝流程簡介： | |
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| 電子級高純水設備工藝流程： | |
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| 電子級高純水設備工藝介紹： | |
| 原水→原水箱→增壓泵→石英砂過濾器→活性炭過濾器→阻垢劑加藥系統/還原劑加藥系統→保安過濾器→中間水箱→高壓泵1→反滲透裝置1→中間水箱→PH調節裝置→高壓泵2→反滲透裝置2→純水箱→輸送泵→精密過濾器→EDI電除鹽系統→EDI高純水箱→輸送泵→拋光混床→TOC去除器→精密過濾器→用水點 | |
| 注：本系統采用反滲透+EDI處理工藝，主要有四個部分組成，預處理系統、二級反滲透主機系統、EDI電除鹽系統、拋光混床系統； | |
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| 原水采用自來水通過增壓泵增壓進入石英砂過濾器、活性炭過濾器，去除水中的懸浮物、膠體、有機物及余氯，配套有絮凝劑加藥系統和阻垢劑加藥系統，可有效降低水中渾濁度，防止反滲透膜的結垢，提高反滲透膜的使用壽命； | |
| 二級反滲透系統采用美國陶氏反滲透膜技術，自動制膜技術有效保證每支膜的水處理性能。一級反滲透采用BW30-400型號的反滲透膜，該膜具有脫鹽率較高、操作壓力較小，抗污染性能，膜的脫鹽率可以達到99.7%；二級反滲透膜采用BW30-365系列膜，該膜廣泛使用二級反滲透系統中。二級反滲透出水水質電導率可以達到4微西門子以下； | |
| EDI電除鹽系統采用西門子模塊，EDI作為綠色脫鹽模式，具有以下優點：占地面積省、運行成本低、系統設計簡單、水質穩定、安裝維修簡便、綠色環保，不需要酸堿再生、可實現連續生產。EDI出水電阻率可以達到15~17兆歐； | |
| 拋光混床系統采用上海樹脂廠和羅門哈斯合資品牌拋光核級樹脂，拋光混床作為制取超純水的核心部件，經處理后出水可以達到18兆歐以上，滿足微電子行業用水要求； | |
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| 技術參數總表（以15t/h高純水設備為例） | |
| 項目型號 | CL-15T/H型高純水設備 |
| 應用行業 | 微電子沖洗用水 |
| 設備控制方式 | 觸摸屏 PLC控制，各液位、壓力連鎖控制，實現無人值守 |
| 產水量 | 15T/H |
| 進水水質指標 | 市政自來水 ，電導率≤1000μS/cm |
| 產水水質 | 電導率≤0.055μS/cm（電阻率≥18MΩ.CM） |
| 反滲透設備系統脫鹽率 | 99.7% |
| 自來水損耗 | 26t/h |
| 進水溫度 | 2~35℃ |
| 工作方式 | 可24小時運行 |
| 設備運行質量 | 預處理部分約30噸 二級反滲透主機系統約5噸 EDI電除鹽和拋光混床：約4噸 |
| 設備額定功率 | 約55KW |
| 電源 | 380V AC 50HZ 三相五線 |
| 反滲透系統回收率 | 50~75% |
| 主機設備規格尺寸 | 長6000*寬2500*高2000 |
| 廠房建議尺寸（含操作維護空間） | 長19000*寬8000*高7000 |
| 進水口徑 | DN100 PN1.0法蘭接口 |
| 出水口徑 | DN65 PN1.0法蘭接口 |
| 排污口徑 | DN150 PN1.0法蘭接口 |
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